選擇MOS管的指南
第一步: 明確N溝道與P溝道首先,需要明確N溝道與P溝道的選擇。N溝道適用于低壓側開關,P溝道適用于高壓側開關。由于MOS管有兩種結構形式——N溝道型和P溝道型,這兩種結構的電壓極性有所不同。因此,在做出選擇之前,務必先確定您的應用場景需要哪種類型的MOS管
MOS管的兩種結構在電子應用中,MOS管通常有兩種結構:N溝道型和P溝道型。這兩種結構各有其特定的應用場景。例如,在低壓側開關中,應采用N溝道MOS管,因為這類器件在關閉或導通時所需電壓較低。相反,在高壓側開關中,則更常選用P溝道MOS管。 商甲半導體的產品被廣泛應用于車身、照明及智能出行等領域。20V至100V N+P MOSFET電子元器件MOSFET供應商
N 溝道 MOS(NMOS)和 P 溝道 MOS(PMOS)
NMOS和PMOS晶體管的主要區(qū)別之一是它們的閾值電壓,即必須施加到柵極終端才能產生導電溝道的小電壓。對于NMOS晶體管,閾值電壓通常為正,而對于PMOS晶體管,閾值電壓通常為負。閾值電壓的差異會對電子電路的設計產生重大影響,因為它決定了晶體管開關所需的電壓水平。
NMOS和PMOS器件的互補性是現代電子電路設計的一個決定性特征。通過在單個電路中結合這兩種類型的晶體管,設計人員可以設計出更高效、功能更***的電路。
互補MOS(CMOS)技術就充分利用了NMOS和PMOS晶體管的優(yōu)勢,從而實現了低功耗和高性能的數字電路。除了電氣特性互補外,NMOS和PMOS晶體管在制造工藝和物理特性方面也存在差異。例如,NMOS晶體管通常比PMOS晶體管具有更高的電子遷移率,因此開關速度更快,整體性能更好。然而,這種優(yōu)勢是以更高的功耗為代價的,因此在設計節(jié)能電子系統時,如何選擇NMOS和PMOS晶體管成為一個關鍵的考慮因素。 杭州應用模塊電子元器件MOSFET無錫商甲半導體提供專業(yè)mosfet產品,多年行業(yè)經驗,提供技術支持,銷向全國!發(fā)貨快捷,質量保證.
MOS管常用封裝
隨著電子技術的不斷進步,如今主板和顯卡的PCB板更傾向于采用表面貼裝式封裝的MOSFET,而非傳統的直插式封裝。因此,本文將重點探討表面貼裝式封裝的MOSFET,并深入介紹MOS管的外部封裝技術、內部封裝改進技術、整合式DrMOS、MOSFET的發(fā)展趨勢以及具體的MOSFET實例等。接下來,我們將對標準的封裝形式進行概述,包括TO(晶體管輪廓)封裝等。
TO(TransistorOut-line)即“晶體管外形”,是一種早期的封裝規(guī)格。其中,TO-92、TO-92L、TO-220以及TO-252等都是采用插入式封裝設計。
隨著表面貼裝市場的需求不斷增長,TO封裝也逐漸演進為表面貼裝式封裝。特別是TO252和TO263,這兩種表面貼裝封裝方式得到了廣泛應用。值得注意的是,TO-252也被稱為D-PAK,而TO-263則被稱為D2PAK。
SOT(Small Out-Line Transistor)封裝,即“小外形晶體管封裝”,是一種貼片型小功率晶體管封裝方式。相較于傳統的TO封裝,其體積更為緊湊,特別適用于小功率MOSFET的封裝需求。
MOS在儀器儀表中的應用十分廣,比如在溫度傳感與信號處理上,MOS管常用于溫度傳感和信號處理電路。在電子體溫計中,雖然MOS管本身不直接作為溫度傳感器,但它可能參與溫度信號的放大、轉換或處理過程。
MOS管常被用于儀器儀表的控制電路中。通過控制MOS管的導通和截止狀態(tài),可以實現儀器儀表的自動化控制和開關功能。
MOS管在醫(yī)療儀器中用于監(jiān)測和控制藥物輸送系統、醫(yī)療成像設備等。在測量儀器中,MOS管常用于信號處理電路和電源管理電路。在工業(yè)自動化領域,MOS管被廣泛應用于各種傳感器和執(zhí)行器的控制電路中。
此外,MOS管在儀器儀表的電源管理電路中發(fā)揮著重要作用。通過MOS管構成的開關電源電路,可以為儀器儀表提供穩(wěn)定、高效的電源供應。
在選擇MOS管時,需要考慮其性能參數、封裝形式、工作環(huán)境、品牌特點以及使用場景等因素。具體電路設計具體分析,要確保MOS管正常工作。在MOS管性能選擇上,需要考慮以下幾個參數Vds、Vgs、Id、Vth、Rds(on)、開關速度、工作溫度范圍、功耗、散熱以及高頻特性等,在具體應用電路上,需要考慮MOS散熱設計,MOS管的布局和布線,合理布局可以減少環(huán)路面積,降低EMI干擾,確保MOS管的電源和地線布局合理,減少電壓降和噪聲。 商甲半導體利用技術優(yōu)勢,以國內新技術代Trench/SGT產品作為首代產品;
QFN封裝的四邊均配置有電極接點
即四邊無引線扁平封裝,是一種新興的表面貼裝芯片封裝技術。其特點在于焊盤尺寸小、體積緊湊,且采用塑料作為密封材料。如今,該技術常被稱作LCC。
因其無引線設計,使得貼裝時的占地面積相較于QFP更小,同時高度也更為低矮。此外,這種封裝形式還被稱為LCC、PCLC、P-LCC等。起初,QFN主要應用于集成電路的封裝,然而,隨著技術的發(fā)展,MOSFET也開始采用這種封裝技術。特別是INTEL提出的整合驅動與MOSFET的DrMOS技術,就采用了QFN-56封裝,其中56表示芯片背面有56個連接Pin。 商甲半導體的SGT系列MOSFET產品具備低內阻、低電容、低熱阻的特點。專業(yè)選型電子元器件MOSFET高壓MOS產品
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評估熱性能
選定額定電流后,還需計算導通損耗。實際中,MOS管并非理想器件,導電時會產生電能損耗,即導通損耗。這一損耗與器件的導通電阻RDS(ON)相關,并隨溫度明顯變化。設計者需評估MOS管的熱性能,包括差情況下的散熱能力,同時需要考慮結溫和熱阻。
功率損耗PTRON可通過公式Iload2×RDS(ON)計算(Iload表示大直流輸出電流)。由于導通電阻受溫度影響,功率損耗也會相應變化。此外,施加的電壓VGS與RDS(ON)呈反比,即電壓越高,RDS(ON)越小;反之亦然。
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