某智能機器人實驗室采用 Polos 光刻機制造了磁控微納機器人。其激光直寫技術在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構,機器人在旋轉(zhuǎn)磁場下的推進速度達 50μm/s,轉(zhuǎn)向精度小于 5°。通過自定義三維運動軌跡,該機器人在微流控芯片中成功實現(xiàn)了單個紅細胞的捕獲與轉(zhuǎn)運,操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%。其輕量化設計(質(zhì)量 < 1μg)還支持在活細胞表面進行納米級手術,相關成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。環(huán)保低能耗設計:固態(tài)光源能耗較傳統(tǒng)設備降低30%,符合綠色實驗室標準。湖北德國桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長
植入式神經(jīng)電極需要兼具生物相容性與導電性能,表面微圖案可remarkable影響細胞 - 電極界面。Polos 光刻機在鉑銥合金電極表面刻制出 10μm 間距的蜂窩狀微孔,某神經(jīng)工程團隊發(fā)現(xiàn)該結(jié)構使神經(jīng)元突觸密度提升 20%,信號采集噪聲降低 35%。其無掩模特性支持根據(jù)不同腦區(qū)結(jié)構定制電極陣列,在大鼠海馬區(qū)電生理實驗中,單神經(jīng)元信號識別率從 60% 提升至 85%,為腦機接口技術的臨床轉(zhuǎn)化奠定了硬件基礎。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。湖北德國桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長柔性電子制造:可制備叉指電容器與高頻電路,推動5G通信與物聯(lián)網(wǎng)硬件發(fā)展。
針對植入式醫(yī)療設備的長期安全性問題,某生物電子實驗室利用 Polos 光刻機在聚乳酸()基底上制備可降解電極。其無掩模技術避免了傳統(tǒng)掩模污染,使電極的金屬殘留量低于 0.01μg/mm2,生物相容性測試顯示細胞存活率達 99%。通過自定義螺旋狀天線圖案,開發(fā)出的可降解心率監(jiān)測器,在體內(nèi)降解周期可控制在 3-12 個月,信號傳輸穩(wěn)定性較同類產(chǎn)品提升 50%,相關技術已進入臨床前生物相容性評價階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。
Polos光刻機與德國Lab14集團、弗勞恩霍夫研究所等機構合作,推動光子集成與半導體封裝技術發(fā)展。例如,Quantum X align系統(tǒng)的高對準精度(100 nm)為光通信芯片提供可靠解決方案,彰顯德國精密制造與全球產(chǎn)業(yè)鏈整合的優(yōu)勢。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會??焖僮詣訉梗洪]環(huán)對焦系統(tǒng)1秒完成,多層半自動對準提升實驗效率。
對于納 / 微機械系統(tǒng)的研究與制造,德國 Polos 光刻機系列展現(xiàn)出強大實力。無掩模激光光刻技術賦予它高度的靈活性,科研人員能夠快速將創(chuàng)新設計轉(zhuǎn)化為實際器件。在制造微型齒輪、納米級懸臂梁等微機械結(jié)構時,Polos 光刻機可precise控制激光,確保每個部件的尺寸和形狀都符合設計要求。? 借助該光刻機,科研團隊成功研發(fā)出新型微機械傳感器,其靈敏度和響應速度遠超傳統(tǒng)產(chǎn)品。并且,由于系統(tǒng)占用空間小,即使是小型實驗室也能輕松引入。Polos 光刻機以其低成本、高效率的特性,成為納 / 微機械系統(tǒng)領域的制造先鋒,助力科研人員不斷探索微納世界的奧秘。工業(yè)4.0協(xié)同創(chuàng)新:與弗勞恩霍夫ILT合作優(yōu)化激光能量分布,提升制造精度。湖北POLOSBEAM-XL光刻機讓你隨意進行納米圖案化
全球產(chǎn)業(yè)鏈整合:德國精密制造背書,與Lab14集團共推光通信芯片封裝技術。湖北德國桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長
在科研領域,設備的先進程度往往決定了研究的深度與廣度。德國的 Polos - BESM、Polos - BESM XL、SPS 光刻機 POLOS μ 帶來了革新之光。它們運用無掩模激光光刻技術,摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且制作周期長的掩模,極大降低了成本。這些光刻機可輕松輸入任意圖案進行曝光,在微流體、電子學和納 / 微機械系統(tǒng)等領域大顯身手。例如在微流體研究中,能precise制造復雜的微通道網(wǎng)絡,助力藥物傳輸、細胞培養(yǎng)等研究。在電子學方面,可實現(xiàn)高精度的電路圖案曝光,為芯片研發(fā)提供有力支持。其占用空間小,對于空間有限的研究實驗室來說堪稱完美。憑借出色特性,它們已助力眾多科研團隊取得成果,成為科研創(chuàng)新的得力助手 。湖北德國桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長