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選擇MOS管的指南
評(píng)估熱性能
選定額定電流后,還需計(jì)算導(dǎo)通損耗。實(shí)際中,MOS管并非理想器件,導(dǎo)電時(shí)會(huì)產(chǎn)生電能損耗,即導(dǎo)通損耗。這一損耗與器件的導(dǎo)通電阻RDS(ON)相關(guān),并隨溫度明顯變化。設(shè)計(jì)者需評(píng)估MOS管的熱性能,包括差情況下的散熱能力,同時(shí)需要考慮結(jié)溫和熱阻。
功率損耗PTRON可通過(guò)公式Iload2×RDS(ON)計(jì)算(Iload表示大直流輸出電流)。由于導(dǎo)通電阻受溫度影響,功率損耗也會(huì)相應(yīng)變化。此外,施加的電壓VGS與RDS(ON)呈反比,即電壓越高,RDS(ON)越小;反之亦然。
在長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)運(yùn)行的設(shè)備,如數(shù)據(jù)中心電源模塊、通信基站電源等場(chǎng)景中,低功耗 MOSFET 優(yōu)勢(shì)明顯。新型電子元器件MOSFET工藝
MOSFET工藝的復(fù)雜性
1.材料選擇與制備MOSFET的制造開(kāi)始于硅片的選取,好品質(zhì)的單晶硅是必不可少的原料。隨后需進(jìn)行多道工序,如氧化、光刻、離子注入等,每一步都需要精確控制以保障元件的性能和穩(wěn)定性。
2.精密的加工流程制造MOSFET的過(guò)程中,對(duì)硅片進(jìn)行多次光刻、刻蝕等精密加工,以構(gòu)建出很微小的電路結(jié)構(gòu)。這些加工過(guò)程的精度要求極高,往往需要借助于先進(jìn)的設(shè)備和技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)。
3.摻雜工藝的挑戰(zhàn)為了提高M(jìn)OSFET的性能,還需要對(duì)硅片進(jìn)行精確的摻雜。摻雜的濃度、均勻性以及深度都對(duì)最終產(chǎn)品的性能有直接影響,這也是工藝中較為復(fù)雜和關(guān)鍵的一環(huán)。
4.封裝與測(cè)試完成制造后的MOSFET還需要經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的封裝與測(cè)試。封裝要確保元件在各種環(huán)境下的穩(wěn)定性,而測(cè)試則是為了篩選出性能合格、無(wú)缺陷的產(chǎn)品。 650V至1200V IGBT電子元器件MOSFET大概價(jià)格多少商甲半導(dǎo)體打造全系列N/P溝道車規(guī)級(jí)MOSFET,為日益增長(zhǎng)的汽車需求助力;
MOS管封裝
TO-220與TO-220F
TO-220與TO-220F這兩種封裝的MOS管在外觀上相似,可以相互替代。然而,TO-220背部配備了散熱片,因此其散熱效果相較于TO-220F更為出色。同時(shí),由于成本因素,TO-220的價(jià)格也相對(duì)較高。這兩種封裝的產(chǎn)品都適用于中壓大電流場(chǎng)合,其電流范圍在120A以下,同時(shí)也可用于高壓大電流場(chǎng)合,但電流需控制在20A以內(nèi)。
TO-251封裝TO-251封裝的產(chǎn)品旨在降低生產(chǎn)成本并減小產(chǎn)品尺寸,特別適用于中壓大電流環(huán)境,電流范圍控制在60A以下,同時(shí)也可用于高壓環(huán)境,但需確保電流在7N以下。
絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管
1、絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管(MOS管)的分類:絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管也有兩種結(jié)構(gòu)形式,它們是N溝道型和P溝道型。無(wú)論是什么溝道,它們又分為增強(qiáng)型和耗盡型兩種。
2、它是由金屬、氧化物和半導(dǎo)體所組成,所以又稱為金屬—氧化物—半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管,簡(jiǎn)稱MOS場(chǎng)效應(yīng)管。
3、絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管的工作原理(以N溝道增強(qiáng)型MOS場(chǎng)效應(yīng)管為例)它是利用UGS來(lái)控制“感應(yīng)電荷”的多少,以改變由這些“感應(yīng)電荷”形成的導(dǎo)電溝道的狀況,然后達(dá)到控制漏極電流的目的。在制造管子時(shí),通過(guò)工藝使絕緣層中出現(xiàn)大量正離子,故在交界面的另一側(cè)能感應(yīng)出較多的負(fù)電荷,這些負(fù)電荷把高滲雜質(zhì)的N區(qū)接通,形成了導(dǎo)電溝道,即使在VGS=0時(shí)也有較大的漏極電流ID。當(dāng)柵極電壓改變時(shí),溝道內(nèi)被感應(yīng)的電荷量也改變,導(dǎo)電溝道的寬窄也隨之而變,因而漏極電流ID隨著柵極電壓的變化而變化。
場(chǎng)效應(yīng)管的工作方式有兩種:當(dāng)柵壓為零時(shí)有較大漏極電流的稱為耗盡型;當(dāng)柵壓為零,漏極電流也為零,必須再加一定的柵壓之后才有漏極電流的稱為增強(qiáng)型。 在變頻器和逆變器中,MOSFET用于控制交流電機(jī)的速度和扭矩.
20V產(chǎn)品主要用于手機(jī)、移動(dòng)電源、可穿戴設(shè)備及消費(fèi)類領(lǐng)域;
30V產(chǎn)品主要用于PC主板和顯卡、馬達(dá)驅(qū)動(dòng)、BMS、電動(dòng)工具、無(wú)線充;
40V產(chǎn)品主要用于無(wú)人機(jī)、BMS、電動(dòng)工具、汽車電子;
60V產(chǎn)品主要用于馬達(dá)控制、BMS、UPS、汽車雨刷、汽車音響;
80-250V產(chǎn)品主要用于低壓系統(tǒng)新能源汽車、馬達(dá)驅(qū)動(dòng)、逆變器、儲(chǔ)能、BMS、LED、PD Charger;600V以上產(chǎn)品主要用于工業(yè)電源、并網(wǎng)逆變、充電樁、家電、高壓系統(tǒng)新能源汽車;
600V以上產(chǎn)品主要用于工業(yè)電源、并網(wǎng)逆變、充電樁、家電、高壓系統(tǒng)新能源汽車;
公司秉承:“致力于功率半導(dǎo)體的設(shè)計(jì)與營(yíng)銷,參與和傳承功率半導(dǎo)體的發(fā)展”的愿景,堅(jiān)持“質(zhì)量至上、創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)”的發(fā)展策略,遵循“問(wèn)題解決+產(chǎn)品交付+售后服務(wù)”的營(yíng)銷 法則,努力將公司建設(shè)成一個(gè)具有國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的功率半導(dǎo)體器件供應(yīng)商。 商甲產(chǎn)品參數(shù)一致性好,降低產(chǎn)品失效概率;可靠性高,滿足極端條件應(yīng)用需求,多方面保障電池安全穩(wěn)定運(yùn)行。揚(yáng)州好的電子元器件MOSFET
商甲半導(dǎo)體的SGT系列MOSFET產(chǎn)品具備低內(nèi)阻、低電容、低熱阻的特點(diǎn)。新型電子元器件MOSFET工藝
TO-92封裝
TO-92封裝主要適用于低壓MOS管,其電流控制在10A以下,耐壓值不超過(guò)60V。此外,高壓1N60/65也采用了這種封裝方式,旨在幫助降低產(chǎn)品成本。
TO-263封裝TO-263封裝,作為TO-220封裝的衍生品,旨在提升生產(chǎn)效率和散熱性能。它能夠支持極高的電流和電壓,特別適用于中壓大電流MOS管,其電流范圍在150A以下,電壓則超過(guò)30V。這種封裝方式在電力電子領(lǐng)域應(yīng)用多。
TO-252封裝TO-252封裝,作為當(dāng)前主流的封裝方式之一,其適用范圍多元。在高壓環(huán)境下,它能夠承受7N以下的壓力;而在中壓環(huán)境中,其電流容量則限制在70A以下。這種封裝方式因其優(yōu)越的電氣性能和穩(wěn)定性,在多個(gè)領(lǐng)域中得到了多個(gè)的應(yīng)用。 新型電子元器件MOSFET工藝