av在线观看地址,国产成人精品亚洲午夜麻豆,国产三级久久久精品麻豆三级,国产欧美日韩一区二区三区,国产精品久久久久一区二区三区

攝影者也許會有這樣的體會：在照相機(jī)上裝上一個(gè)遠(yuǎn)攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機(jī)取景器中觀察，竟一時(shí)無法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位，不得已，只好將眼睛離開照相機(jī)取景目鏡眺望實(shí)景，方搞清楚原來是鏡頭視野太窄，它所“見”到的只是人眼通常所見到的畫面中相當(dāng)小的一部分...

2、廣角鏡頭使用遮光罩或?yàn)V色鏡時(shí)，很容易遮擋鏡頭視角的周圍，使像場發(fā)暗，而這一情況，在取景時(shí)不容易察覺，但在照片上卻很明顯。因此，運(yùn)用附件時(shí)， 一定要從說明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說明書中沒有說明，拍攝時(shí)就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...

光致抗蝕劑，簡稱光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對駐波效應(yīng)不敏感、曝光容限大、***密度低和無毒性等...

光刻系統(tǒng)SUSS是一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實(shí)現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過精密光學(xué)曝光技術(shù)完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移，為集成電路研發(fā)和生產(chǎn)提供關(guān)鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

2024年9月工信部發(fā)布的技術(shù)指標(biāo)顯示，國產(chǎn)浸沒式光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)：1.套刻精度≤8nm [1]2.滿足28nm制程需求 [1]3.具備多重曝光技術(shù)適配能力研發(fā)過程中需突破：超純水循環(huán)系統(tǒng)的納米級污染控制高速掃描下的液體湍流抑制光路折射率穩(wěn)定性維持林本堅(jiān)團(tuán)隊(duì)在浸液...

CS型鏡頭With a 5 mm adapter ring, a C lens can be used on a CS-mount camera.U型鏡頭一種可變焦距的鏡頭，其法蘭焦距為47.526mm或1.7913in，安裝羅紋為M42×1。主要設(shè)計(jì)作35m...

選購廣角數(shù)碼相機(jī)時(shí)除了要注意相機(jī)的整體性能外，還需要著重考察其鏡頭表現(xiàn)。鏡頭畸變情況是我們首先需要考慮的因素。一般來說廣角下拍攝更容易產(chǎn)生畸變，但不同的相機(jī)所拍攝的照片變形的程度也不同，總體而言畸變越輕微越好。其次也要注意畫面的解析度，由于受到成本的限制，數(shù)碼...

半導(dǎo)體器件和集成電路對光刻曝光技術(shù)提出了越來越高的要求，在單位面積上要求完善傳遞圖像的信息量已接近常規(guī)光學(xué)的極限。光刻曝光的常用波長是3650～4358 埃，預(yù)計(jì)實(shí)用分辨率約為1微米。幾何光學(xué)的原理，允許將波長向下延伸至約2000埃的遠(yuǎn)紫外波長，此時(shí)可達(dá)到的實(shí)...

1971年，當(dāng)時(shí)是耶魯大學(xué)科學(xué)史**阿瓦隆講座教授的普萊斯和希臘德謨克利特國家科學(xué)研究中心的核物理學(xué)家哈拉蘭伯斯·卡拉卡洛斯合作?？ɡ逅故褂觅ゑR射線和X射線對安提基特拉機(jī)械攝影，得知了其內(nèi)部配置的關(guān)鍵訊息。1974年時(shí)普萊斯發(fā)表文章“來自希臘的齒輪裝置：安...

廣角鏡頭***用于大場面風(fēng)景攝影作品的拍攝。 能增加攝影畫面的空間縱深感； 景深較長，能保證被攝主體的前后景物在畫面上均可清晰的再現(xiàn)。所以，現(xiàn)代絕大多數(shù)的袖珍式自動照相機(jī)（俗稱傻瓜照相機(jī)）采用38－35毫米的普通廣角鏡頭； 鏡頭的涵蓋面積大，拍攝的景物范圍寬廣...

掃描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工藝；掩膜板1：1，全尺寸；步進(jìn)重復(fù)投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或稱作Stepper）。80年代末～90年代...

所有實(shí)際電子束曝光、顯影后圖形的邊緣要往外擴(kuò)展，這就是所謂的“電子束鄰近效應(yīng)。同時(shí)，半導(dǎo)體基片上如果有絕緣的介質(zhì)膜，電子通過它時(shí)也會產(chǎn)生一定量的電荷積累，這些積累的電荷同樣會排斥后續(xù)曝光的電子，產(chǎn)生偏移，而不導(dǎo)電的絕緣體（如玻璃片）肯定不能采用電子束曝光。還有...

42、始用擋料銷（板）始用擋料銷（板）是供材料起始端部送進(jìn)時(shí)定位用的零件。始用擋料銷（板）都是移動式的。43、拼塊塊是組成一個(gè)完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個(gè)拼合零件。44、擋塊（板）擋塊（板）是供經(jīng)側(cè)刃切出缺口的材料送進(jìn)時(shí)定位用的淬硬零件，兼用以平衡側(cè)...

由測量系統(tǒng)、指示部分和表殼部分等組成。2.測量系統(tǒng)——由接頭，彈簧管和齒輪轉(zhuǎn)動機(jī)構(gòu)等組成。3.由被測介質(zhì)的壓力作用，使彈簧管的末端（自由端）相應(yīng)地產(chǎn)生位移，借助連桿帶動機(jī)構(gòu)中的扇形齒輪產(chǎn)生一角位移，而使齒輪軸得以偏轉(zhuǎn)——傳給指示部分。4.指示部分——由分度盤、...

西塞羅的著作《論共和國》，一本西元前一世紀(jì)的哲學(xué)對話錄，提及兩個(gè)現(xiàn)代被認(rèn)為是某種天象儀或太陽系儀的儀器，可以預(yù)測日月和五顆行星在天球的位置。這兩個(gè)儀器都是由阿基米德制造，在阿基米德于西元前212年的敘拉古圍城戰(zhàn)身亡后，這兩臺機(jī)器被羅馬將領(lǐng)馬庫斯·克勞迪烏斯·馬...

電動三可變鏡頭與自動光圈電動變焦鏡頭相比，只是將對光圈調(diào)整電機(jī)的控制由自動控制改為由控制器來手動控制。按焦距（約50度左右），廣角鏡頭和特廣角鏡頭（100-120度）標(biāo)準(zhǔn)鏡頭視角約50度，也是人單眼在頭和眼不轉(zhuǎn)動的情況下所能看到的視角，所以又稱為標(biāo)準(zhǔn)鏡頭。5m...

決定光刻膠涂膠厚度的關(guān)鍵參數(shù)：光刻膠的黏度（Viscosity），黏度越低，光刻膠的厚度越薄；旋轉(zhuǎn)速度，速度越快，厚度越??；影響光刻膠均勻性的參數(shù)：旋轉(zhuǎn)加速度，加速越快越均勻；與旋轉(zhuǎn)加速的時(shí)間點(diǎn)有關(guān)。一般旋涂光刻膠的厚度與曝光的光源波長有關(guān)（因?yàn)椴煌墑e的曝光...

世界三 大光刻機(jī) 生產(chǎn)商ASML，Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒 式 光 刻 機(jī) 樣 機(jī) 都 是 在 原 有193nm干式光刻機(jī)的基礎(chǔ)上改進(jìn)研制而成，**降低了研發(fā)成本和風(fēng)險(xiǎn)。因?yàn)榻]式光刻系統(tǒng)的原理清晰而且配合現(xiàn)有的光刻技術(shù)變動不大，目前193...

廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機(jī)普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短，視角大，在較短的拍攝距離范圍內(nèi)，能拍攝到較大面積的景物。所以，**...

準(zhǔn)分子光刻技術(shù)作為當(dāng)前主流的光刻技術(shù)，主要包括：特征尺寸為0．1μm的248 nm KrF準(zhǔn)分子激光技術(shù)；特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準(zhǔn)分子激光技術(shù)；特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒式技術(shù)（Immersion，193i）。其中193...

目 前EUV技 術(shù) 采 用 的 曝 光 波 長 為13．5nm，由于其具有如此短的波長，所有光刻中不需要再使用光學(xué)鄰近效應(yīng)校正（OPC）技術(shù)，因而它可以把光刻技術(shù)擴(kuò)展到32nm以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)。2009年9月Intel*** 次 向 世 人 展 示 了22 nm工...

2、廣角鏡頭使用遮光罩或?yàn)V色鏡時(shí)，很容易遮擋鏡頭視角的周圍，使像場發(fā)暗，而這一情況，在取景時(shí)不容易察覺，但在照片上卻很明顯。因此，運(yùn)用附件時(shí)， 一定要從說明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說明書中沒有說明，拍攝時(shí)就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...

2006年時(shí)，萊特完成了他相信幾乎正確的復(fù)制品。萊特和安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃成員仍同時(shí)進(jìn)行安提基特拉機(jī)械的研究。萊特稍微修改他的模型，引進(jìn)了計(jì)劃團(tuán)隊(duì)建議的針狀和槽狀嚙合齒輪，這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國家考古博物館展示...

早在80年代，極紫外光刻技術(shù)就已經(jīng)開始理論的研究和初步的實(shí) 驗(yàn)，該技術(shù) 的光源是波 長 為11～14 nm的極端遠(yuǎn)紫外光，其原理主要是利用曝光光源極短的波長達(dá)到提高光刻技術(shù)分辨率的目的。由于所有的光學(xué)材料對該波長的光有強(qiáng)烈的吸收，所以只能采取反射式的光路。EU...

我們建議攝影入門用戶在攝影學(xué)習(xí)階段，除了相機(jī)上已經(jīng)配備的套裝鏡頭之外，不必再購買任何鏡頭。以后成為“高手”時(shí)，再考慮較長焦距的鏡頭。即使到那時(shí)，除非對遠(yuǎn)攝鏡頭具有特殊的需求，并且資金也不成問題，否則我們建議不要考慮超過200mm的任何鏡頭。如果偶爾需要遠(yuǎn)攝鏡頭...

安提基特拉機(jī)械以其小型化和其部分裝置的復(fù)雜性可與19世紀(jì)機(jī)械鐘表相比而聞名。它有超過30個(gè)齒輪，雖然麥可·萊特認(rèn)為它可多達(dá)72個(gè)有正三角形齒的齒輪。當(dāng)借由一個(gè)曲柄輸入一個(gè)日期，該機(jī)械就可算出日月或行星等其他天**置。因?yàn)樵摍C(jī)械是以地球表面觀測天球者為參考座標(biāo)，...

使用長焦鏡頭拍攝時(shí)，測光比較好采用機(jī)內(nèi)TTL測光方式。因?yàn)?，普通的入射式或反射式測光表的受光角往往大于鏡頭視角，直接按測光表數(shù)值曝光會出現(xiàn)偏差 [6]。1、使用較高快門速度高速快門可以降低或避免相機(jī)抖動造成的圖像發(fā)虛。尤其是手持相機(jī)時(shí)，應(yīng)首先考慮通過提高快門速...

能強(qiáng)調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對比。這是廣角鏡頭的另一個(gè)重要性能。所謂強(qiáng)調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對比，是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強(qiáng)調(diào)近大遠(yuǎn)小的對比度。也就是說，用廣角鏡頭拍出來的照片，近的東西更大，遠(yuǎn)的東西更小，從而讓人感到拉開了距離，在縱深方向上產(chǎn)生強(qiáng)烈的******效果。...

以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例，魚眼鏡頭是一種焦距約在6-16毫米之間的短焦距超廣角攝影鏡頭，“魚眼鏡頭”是它的俗稱。為使鏡頭達(dá)到比較大的攝影視角，這種攝影鏡頭的前鏡片直徑且呈拋物狀向鏡頭前部凸出，與魚的眼睛頗為相似，“魚眼鏡頭”因此而得名。魚...

得指出的是，EUV光刻技術(shù)的研發(fā)始于20世紀(jì)80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點(diǎn)（對應(yīng)邏輯器件130nm節(jié)點(diǎn)）就能用上EUV光刻機(jī) [1]?？墒牵@一技術(shù)一直達(dá)不到晶圓廠量產(chǎn)光刻所需要的技術(shù)指標(biāo)和產(chǎn)能要求。一拖再拖，直到2016年，EUV光刻機(jī)仍然沒能...